真空断路器用电气接点及其制法

公开号：CN1892956

公开日：2007.01.10

申请人：株式会社日立制作所

本发明的目的是提供兼备开断性能和低电涌性能、多次断路所导致的性能恶化小的电气接点。该接点由Cr和Cu或Ag中的任意一种和碳化物形成。在以Cu或Ag中任意一种作为主成分的基体中，形成以碳化物包围的Cr弥散分布的组织成分。其特征是含有1%～30％碳化物（质量分数），余为Cu。另外，其特征是由Cr、Cu和碳化物形成，Cr和碳化物的重量比为1∶1.5～50。通过包含Cr和Cu或Ag中任意一种，得到充分的开断性能。另外，通过电流开断时的碳化物的升华现象，可以减小截断电流，同时促进电弧驱动，发挥出色的开断性能。该碳化物存在于Cr的周边，可以确保以Cu或Ag中的任意一种为主成分的基体的通电性能，发挥提高所述的低电涌性能的作用。